語言
Epi RP 300 Compass HP? 是天芯微面向 12 英寸硅基外延市場自主研發的減壓外延產品，創新的 Compass HP 平臺可靈活配置 1 到 4 個外延腔，集成至多 2 個預清洗腔，滿足差異化的產能需求和工藝要求。
Epi RP 300 Compass HP? 可應用于先進制程邏輯器件的 PMOS 和 NMOS 的源極 (Source)、漏極 (Drain) 和溝道（channel），以及功率器件和存儲區間中深槽的填充，適用于多種外延生長材料，如硅、硅鍺、硅磷等。
天芯微自主設計研發的進氣模塊和多區加熱模塊，實現了溫度的快速升降和溫度場的精確控制，使系統具備優異的工藝重復性和設備穩定性，從而獲得良好的厚度均勻性、電阻率均勻性，零滑移線和低缺陷密度的外延層生長。
投放市場后，Epi RP 300 Compass HP? 已獲得多家主流 Fab 的青睞，整體性能表現媲美主流產品，并在部分核心參數上達到國際領先水平。
產品特點
Compass八邊平臺設計，具備高效且靈活的生產配置能力
自主研發的多區溫控模組實現各溫區的精準控溫和溫度均勻分布
自主研發的獨立多區進氣系統改善薄膜均一性
腔體微縮化設計
一體集成預清洗系統
智能化軟件控制平臺，實現對單個工藝腔體實時獨立控制
